Heat Exchanger – 冷冻�?工业冷冻�?高低温一体机

伊涅亚阿登迪 — Fri, 11 Jul 2025 00:52:55 +0000

　　直冷式制冷技术因其直接换热的原理，在多个工业领域展现出较高的适用性。其中，三通道直冷机通过多回路控温设计，能够同时满足不同温区的制冷需求，在半导体制造、化工生产、制药及大型服务器冷却等行业得到应用�?/p>

　　一、三通道直冷机的工作原理与系统架�?/strong>

　　三通道直冷机的核心在于其多回路制冷系统，每个通道可单独控制温度，适用于需要同时处理多个不同温区的场景。其制冷循环基于蒸气压缩原理，但相较于单通道直冷机，三通道系统采用多压缩机并联或复叠式制冷技术，确保各通道的制冷能力可单独调节�?

　　1、制冷循环分�?/strong>

　　该制冷循环系统采用多通道控温设计，各通道配备高性能变频压缩机，将气态制冷剂压缩至高温高压状态；随后制冷剂通过风冷或水冷冷凝器进行放热液化，部分机型采用板式换热器以提升热交换效率；系统通过电子膨胀阀准确调节制冷剂流量，确保蒸发温度稳定；制冷剂在目标设备内直接蒸发吸热，省去传统载冷剂的中间传热环节，降低传热损失�?/p>
　　2、三通道控制机制

　　该三通道单独控制系统为每个通道配置了高精度温度传感器和压力变送器，实时准确监测蒸发器运行状态；系统采用PLC控制器，通过智能PID算法动态调节压缩机转速和电子膨胀阀开度，确保温度控制精度稳定。该设计使得三通道直冷机能够同时处理不同温区的制冷需求，在半导体测试中，可分别控制芯片、电源模块和光学器件的冷却温度，避免传统单通道系统因温度失控导致的控温偏差�?

　　二、行业应用分�?/strong>

　　1、半导体制造与测试

　　在半导体制造领域，三通道直冷机凭借其多通道控温特性，广泛应用于晶圆刻蚀、芯片测试和封装等关键工艺环节：针对晶圆刻蚀工艺中不同反应腔对特定低温的差异化需求，三通道系统可实现各腔体的准确控温；在进行高功率芯片可靠性测试时，系统可同时对供电模块、信号处理单元和光学传感器实施分区温度管理，避免热干扰问题；在芯片封装过程的塑封和键合阶段，通过为不同材料提供定制化温控方案，提升了产品良率和工艺稳定性，充分满足半导体制造对温度控制的高精度要求�?/p>
　　2、化工与制药行业

　　在化工与制药行业，三通道直冷机为工艺过程提供准确温度管理解决方案：针对化学反应釜的特殊工艺需求，系统可实现在低温条件下安全引发聚合反应，并快速切换至高温维持合适的反应速率；在医药冻干工艺中，通过单独控制预冻、升华和解析三个关键阶段的温度参数，提升了效率和质量，这种温控能力使三通道直冷机成为化工制药行业工艺优化和设备升级的选择�?/p>
　　3、新能源与汽车测�?/strong>

　　在新能源与汽车测试领域，三通道直冷机展现出多工况模拟能力，解决了传统单通道系统无法兼顾多温区的技术难题，提升燃料电池系统的整体测试效率和能源利用率，为新能源研发验证提供测试支持�?/p>
三通道直冷机凭借多回路控温能力，在半导体、化工、医药、大型服务器及新能源等领域展现出较高的适用性。其直接蒸发换热的原理减少了中间传热损失，结合变频调节和智能控制算法，能够满足复杂工业场景下的准确温控需求�?/p>

接触式高低温测试�?/a>
接触式⾼低温测试机应⽤温度范�?75~+200℃，⽀持从极低温到⾼温的快速升温和降温，最快速率可达�?5�?min，能够精确的控制温度，误差通常在�?.2℃以内�?/p>详细信息
双通道系列 Dual Channel Chiller
FLTZ系列双通道Chillers主要用于半导体制程中对反应腔室温度的精准控制，公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），显著提升系统的响应速度、控制精度和稳定性�?/p>详细信息
ZLTZ直冷控温机组Chiller
ZLTZ直冷控温机组Chiller适合应⽤于微通道反应器、板式换热器、冷板、热沉板、管式反应器等换热⾯积⼩、制冷量⼤、温差⼩的控温需求场所；设备可⾃动回收导热介质�?/p>详细信息
LT系列低温冷冻�?/a>
适用范围冠亚恒温低温冷冻机温度范围从-150℃到-5℃，采用二次过冷技术，制冷迅速。产品可靠性强，性能优异�?产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter LT 10℃~30�?LT -25℃~30�?LT -45℃~30�?LT -60℃~-30�?LT -80℃~-40�?所有设备额定测试条…
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LTZ变频系列低温冷冻机组
适用范围 LTZ系列低温冷冻机采用变频技术，节约能耗，控温范围�?115℃～30℃，控温精度：�?.5℃。变频压缩机组通过内置变频装置随时根据⽤⼾冷热负荷需求改变直流压缩机的运⾏转速，从⽽避免压缩机与电加热满负荷对抗，保持机组稳定的⼯作状态，达到节能效果�?产品特点 Product Features 产品参数 Product Param…
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HLTZ系列氢气高效换热制冷机组
适用范围氢气经过内高压换热器，制冷系统通过制冷剂直接与氢气换热，实现高效换热控温；设备本体采用正压防爆系统，正压系统内置有恒温器，确保系统环境维持在常温。相对于传统防冻液或其他流体与氢气换热，本设备采用介质为制冷系统制冷剂（相变热），能效更高；内置有可再生干燥机，确保正压系统内部干燥，没有冷凝水；可与耐高压微通道换热器或壳管换热器（9…
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LG螺杆机组系列
适用范围本系列设备适⽤于各类化⼯、医药、机械等领域⽣产⼯艺冷源，可提供-110℃~30℃冷冻介质，可作为冰蓄冷、低温送⻛及其它⽣产⼯艺所要求的⼯艺冷源�?产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter LG 5℃~30�?LG -25℃~5�?LG -45℃~-10�?LG -60℃~-10�?LG -80℃~-30�?LG -110℃~-50�?行业…
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2度纯水DI制冷控温机组
适用范围特别适合生产过程�?℃~5℃DI水需求的应用场景�?产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 行业应用 APPLICATION 新材料|特气生产控温解决方案新材料，作为新近发展或正在发展的具有优异性能的结构材料和有特殊性质的功能材料，其研发和生产过程对温度控制有着…
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LTZ变频M系列
LTZ变频M系列，适合应⽤于⽬标控温对象已经有蓄冷罐、循环泵，通过循环泵将介质输送⼊LTZM系列制冷控温机组，构成⼀个闭合循环制冷系统�?/p>详细信息
单通道系列 Single Channel Chiller
FLTZ系列单通道Chillers主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制，公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），实现系统快速响应、较高的控制精度�?/p>详细信息
三通道系列 Triple Channel Chiller
FLTZ系列三通道Chillers主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制，系统支持三个通道独立控温，每个通道有独立的温度范围、冷却加热能力、导热介质流量等�?/p>详细信息
ZLJ/SLJ系列超低温直冷机
适用范围将制冷系统中的制冷剂直接输出蒸发进⼊⽬标控制元件（换热器）换热，从⽽使⽬标控制对象降温。具备换热能力相对于流体（⽓体）输送⼊换热器换热能⼒更⾼⼀般在5倍以上，这样特别适⽤于换热器换热⾯积⼩，但是换热量⼤的运⽤场所�?也可以如⽓体捕集运⽤，将制冷剂直接通⼊捕集器蒸发，通过捕集器表⾯冷凝效应，迅速捕集空间中的⽓体�?…
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真空控温卡盘Chuck
冠亚恒温LNEYA真空控温卡盘Chuck提供8寸卡盘�?2寸卡盘以及非标定制方形冷板，支持-70~+200℃宽温度范围，也可以定制各种其他温度范围，内置多个温度传感器，多区控温，精确FID调节控温；支持直冷、液冷、⽓冷；
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面板系列Panel Chiller
面板系列Chiller应⽤于刻蚀、蒸镀、镀膜⼯艺等，支持⼤流量⾼负载，确保极端⼯况下持续稳定运⾏；支持冷却⽔动态调节系统，可根据环境温度与设备热负荷，实时调节⽔温�?/p>详细信息
帕尔贴Chiller
冠亚恒温LNEYA 帕尔贴热电制冷器CHILLER温度范围�?20�?0℃，专为半导体行业度身定制；基于经过实践验证的帕尔贴热传导原理，帕尔贴温度控制系统能够为等离子刻蚀应用提供可重复性的温度控制�?/p>详细信息

Heat Exchanger – 冷冻�?工业冷冻�?高低温一体机

伊涅亚阿登迪 — Thu, 27 Feb 2025 06:49:18 +0000

　　在晶圆制造领域，晶圆制造领域控温chiller的应用比较重要，因为准确的温度控制能够确保晶圆加工过程中的质量和产量。以下晶圆制造领域控温chiller是一些具体的应用案例�?/p>

　　案例一：光刻过程中的温度控�?/strong>

　　应用描述�?/strong>光刻是晶圆制造中的关键步骤，需要将光敏抗蚀剂通过曝光形成所需电路图案。温度的波动会影响光刻胶的均匀性和曝光质量�?/p>
　　解决方案�?/strong>使用无锡冠亚Chiller为光刻机提供稳定的温度控制，确保光刻胶在恒定温度下曝光，减少因温度变化引起的缺陷�?/p>
　　效果：晶圆制造领域控温chiller通过准确的温度控制，提高了光刻过程的一致性和产量，减少了废品率�?/p>
　　案例二：化学气相沉积（CVD）过程中的温度管�?/strong>

　　应用描述�?/strong>CVD是用于在晶圆表面沉积薄膜的技术。温度控制对于薄膜的质量和均匀性影响比较大�?/p>
　　解决方案�?/strong>无锡冠亚Chiller被用于维持CVD反应室内的准确温度，以确保沉积过程的稳定性和薄膜质量�?/p>
　　效果�?/strong>晶圆制造领域控温chiller准确的温度控制有助于提高薄膜的均匀性和附着力，减少缺陷和提高器件性能�?/p>
　　案例三：刻蚀过程中的温度调节

　　应用描述�?/strong>在晶圆制造过程中，刻蚀步骤需要去除多余的材料以形成电路图案。温度控制对于刻蚀速率和选择性影响比较大�?/p>
　　解决方案�?/strong>使用无锡冠亚Chiller为刻蚀设备提供准确的温度控制，以优化刻蚀液的性能和刻蚀过程的均匀性�?/p>
　　效果�?/strong>晶圆制造领域控温chiller通过准确控制刻蚀液的温度，提高了刻蚀过程的精度和产量，减少了边缘粗糙度和刻蚀不均匀的问题�?/p>
　　案例四：清洗过程中的温度维持

　　应用描述�?/strong>晶圆在制造过程中需要经过多次清洗以去除残留物。清洗液的温度直接影响清洗效果�?/p>
　　解决方案�?/strong>无锡冠亚Chiller被用于维持清洗液的恒定温度，以确保清洗过程的有效性�?/p>
　　效果�?/strong>晶圆制造领域控温chiller恒定的温度控制提高了清洗效率，减少了残留物和提高了晶圆的清洁度�?/p>
　　案例五：离子注入过程中的温度控制

　　应用描述�?/strong>离子注入是改变晶圆表面电学性质的过程。温度控制对于注入剂量和分布的准确性影响比较大�?/p>
　　解决方案�?/strong>无锡冠亚Chiller被用于维持离子注入机的温度，以确保注入过程的稳定性和均匀性�?/p>
　　效果�?/strong>晶圆制造领域控温chiller准确的温度控制有助于提高离子注入的均匀性和重复性，从而提高了器件的性能和可靠性�?/p>
这些案例展示了无锡冠亚Chiller在晶圆制造领域的多样化应用，晶圆制造领域控温chiller通过提供准确和稳定的温度控制，Chiller有助于提高晶圆制造过程的质量和效率，确保产品的高性能和可靠性�?/p>

Heat Exchanger – 冷冻�?工业冷冻�?高低温一体机

伊涅亚阿登迪 — Mon, 25 Nov 2024 03:14:15 +0000

Heat Exchanger

适用范围

氢气经过内高压换热器，制冷系统通过制冷剂直接与氢气换热，实现高效换热控温；设备本体采用正压防爆系统，正压系统内置有恒温器，确保系统环境维持在常温。相对于传统防冻液或其他流体与氢气换热，本设备采用介质为制冷系统制冷剂（相变热），能效更高；内置有可再生干燥机，确保正压系统内部干燥，没有冷凝水；可与耐高压微通道换热器或壳管换热器（99Mpa)组合成换热控温机组。设备采用变频控制，技术参数表�?0hz工况下的制冷量，当变频调节到70hz时，制冷量同样会成比例增加�?/p>

全国服务热线 400-100-3163

首页 / Tag Archives: Heat Exchanger

产品特点

Product Features

特点一控温范围�?40 ℃～-30℃，控温精度：�?.3�?/span>
特点�?/b>采用正压防爆系统，正压系统内置有恒温器，确保系统环境维持在常�?/span>

特点�?/b>内置有可再生干燥机，确保正压系统内部干燥，没有冷凝水�?/span>

特点�?/b>采用变频控制，技术参数表�?0hz工况下的制冷量，当变频调节到70hz时，制冷量同样会成比例增�?/span>

产品参数

Product Parameter

型号 HLTZ4-10WPEX HLTZ4-40WPEX HLTZ4-75WPEX

温度范围 -40 ℃～-30�?/td> -40℃～-30�?/td> -40℃～-30�?/td>

控温精度 ±0.3�?/td> ±0.3�?/td> ±0.3�?/td>

温度反馈 Pt100 Pt100 Pt100

制冷�?0HZ -40�?/td> 4.5kW 16kW 40kW

压缩�?/td> 变频压缩�?/td>

节流方式电子膨胀阀

输入、显�?/td> 7寸西门子触摸屏\ PLC控制�?/td>

通信 Modbus RTU协议RS485接口、以太网TCP/IP协议

制冷�?/td> R404A/R448A

进出液尺�?/td> DN15 PN16 DN20 PN16 DN25 PN16

水冷冷凝�?/td> 需要冷水机供水或闭式冷却塔供水

电源 380V 50HZ 可选配三相/460V 60HZ

管路材质铜、SUS304

外壳材质冷轧板喷塑（REL7035�?/td>

行业应用

APPLICATION

氢能源产业控温解决方�?/p>

在氢气制取环节，无论是通过电解水、天然气重整还是其他方式制取氢气，都需要对反应温度进行精确控制，以确保反应的高效进行和产品的纯度。在氢气的储存和运输过程中，由于氢气具有易燃易爆的特性，对储存设备和运输管道的温度要求极高，以防止因温度异常而引发的安全事故。此外，在氢燃料电池汽车等下游应用领域，也需要对电池温度进行精准控制，以提高电池的性能和使用寿命�?/p>

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LT-800 桌面款制冷循环器
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Heat Exchanger – 冷冻�?工业冷冻�?高低温一体机

伊涅亚阿登迪 — Thu, 21 Nov 2024 04:58:47 +0000

　　在化工行业中，高低温控温系统一拖二作为一种温度控制设备，在化工换热器中通过准确的温度控制和稳定的传递，确保了化工生产过程的稳定性和效率�?/p>

　　一、高低温控温系统一拖二在化工换热器中的应用优势

　　高精度温控能力：高低温控温系统一拖二采用冠亚恒温的控制算法和有效的加热、制冷技术，能够实现高精度的温度控制。控温精度可达�?.3℃，确保换热器内温度的稳定，从而提高化工产品的质量和收率�?/p>
　　快速响应：高低温控温系统具有快速的加热响应能力和高加热效率，可以快速将油温提高到系统设定的温度，并在实时控制下对加热功率进行调节。同时，有效的制冷技术也能够在需要时迅速降低温度，从而提高换热器的效率�?/p>
　　多重保护机制�?高低温控温系统一拖二通过电子控制系统，利用多种保护装置，如过热保护、漏电保护等，确保设备的安全运行。这可以有效地防止换热器在加热或冷却过程中发生意外事故，保障工作人员和设备的安全�?/p>
　　宽温度控制范围和灵活应用�?高低温控温系统温度控制范围宽，适合多数企业的恒温控制需求。制冷功率从0.5kW�?200kW均可提供相应产品，满足不同规模的化工生产需求。同时，通过可编程温度控制器，用户可以根据实际需求设定温度控制参数，实现灵活应用�?/p>
　　二、高低温控温系统一拖二在化工换热器中的具体应用

　　化工精馏釜的温度控制�?在化工精馏过程中，需要对液体混合物进行蒸馏和分离。高低温控温系统一拖二能够准确控制精馏釜的温度，确保蒸馏过程的稳定性和效率。同时，通过连续的升降温操作，大大节省了试验时间和精力�?/p>
　　反应釜的温度控制�?化工用高低温一体机可以配套反应釜进行冷却、加热和温度控制等作业。通过设定釜体和夹套内的温度差，当温差达到设定值时，设备会自动停止工作并报警提示，防止反应釜因温差过大而破裂�?/p>
　　换热器的热交换优化：高低温控温系统一拖二采用板式换热器，热交换面积大，热交换速度快。通过优化试验箱内的空气循环系统和热传导路径，可以减小温度梯度和波动范围，提高温度均匀性和稳定性�?/p>
高低温控温系统一拖二在化工换热器中的应用，不仅提高了温度控制的精度和效率，还确保了设备的安全运行和化工产品的质量�?/p>

Heat Exchanger – 冷冻�?工业冷冻�?高低温一体机

伊涅亚阿登迪 — Tue, 24 Sep 2024 01:16:50 +0000

Heat Exchanger – 冷冻�?工业冷冻�?高低温一体机

伊涅亚阿登迪 — Tue, 24 Sep 2024 00:56:25 +0000

Heat Exchanger – 冷冻�?工业冷冻�?高低温一体机

伊涅亚阿登迪 — Sat, 25 May 2024 03:10:37 +0000

Heat Exchanger

适用范围

ETCU换热控温单元冷却⽔温度范围：+5℃�?90℃，控温精度±0.05℃；系统⽆压缩机，通过换热降温；⽀持⾮标定制，⽀持PC远程控制；采⽤西⻔⼦/霍尼⻙尔调节阀控制冷却⽔流量；最⼤循环量时，控温温度与冷却⽔温度温差15°C�?/p>

全国服务热线 400-100-3163

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产品特点

Product Features

特点一控温范围�?℃～+90�?/span>
特点�?/b>系统⽆压缩机，通过换热降温

特点�?/b>控温精度：�?.05�?/span>

特点�?/b>⽀持⾮标定制，⽀持PC远程控制

产品参数

Product Parameter

型号 ETCU-005W ETCU-015W ETCU-030W ETCU-050W ETCU-100W ETCU-200W ETCU-300W

温度范围冷却水温�?+5℃~90�?/td>

控温精度 ±0.05℃（出口温度稳态）

冷却水温�?/td> 7℃~30�?采用西门�?霍尼韦尔调节阀控制冷却水流�?/td>

冷却能力 5kW 15kW 30kW 50kW 100kW 200kW 300kW

测试条件：最大循环量时，控温温度与冷却水温度温差15�?/td>

流量/压力 MAX 7~20L/min 5bar 15~40L/min 5bar 20~60L/min 5bar 40~110L/min 5bar 150~250L/min 5bar 250~500L/min 5bar 400~650L/min 5bar

储罐容积 5L 10L 20L 30L 60L 120L 240L

外形尺寸 cm 48*75*39 48*75*39 48*75*50 定制定制定制定制

行业应用

APPLICATION

半导体FAB工艺过程控温解决方案

半导体制造是一个对环境要求极高的过程，许多工艺步骤对温度非常敏感�?/p>
精确的温度控制能够确保沉积的薄膜厚度均匀、成分准确，从而提高芯片的性能和良率�?/p>

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半导体封测工艺过程控温解决方�?/p>

半导体封测工艺是半导体生产流程中的关键环节，包括晶圆测试、芯片封装和封装后测试。这一流程不仅要求高度的精确性和可靠性，还需要对温度进行严格控制，以确保产品的质量和性能�?/p>

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Heat Exchanger – 冷冻�?工业冷冻�?高低温一体机

伊涅亚阿登迪 — Sun, 08 Oct 2023 06:17:25 +0000

Chiller 换热�? 系统无压缩机
半导体chiller 半导体温控装置Chiller
冷却能力5KW~30KW
温度范围冷却水温�?5℃~90�?±0.3�?/span>
储罐容积6L~15L
尺寸480*750*390/480*750*500

半导体投入大，制造工序多，为了提高产品的良品率、确保收益，需要在半导体的每个环节进行质量把控，影响产品质量的其中一个重要因素就是温度，温度的稳定性及精准度非常重要，为获得稳定可靠的产品保驾护航�?/p>
冠亚循环冷却�?/strong>和水- 水热交换器为从前端到后端的整体半导体工艺流程提供支持。通过拥有超过16年的温度控制经验以及与各大zhi名主设备机台直接配套经验，我们为半导体客户提供标准产品及用户定制产品、温度控制技术的专业知识以及全球化服务，有助于满足您从铸锭到测试的半导体工艺流程中苛刻的温度要求�?/p>

型号

ETCU-005W

ETCU-008W

ETCU-015W

ETCU-030W

温度范围

冷却水温度�?5℃~90℃ �?.3�?/p>

冷却水温�?/p>

7℃~30�?采用西门�?霍尼韦尔调节阀控制冷却水流�?/p>

冷却能力

5kw

8kw

15kw

30kw

测试条件：zui大循环量时，控温温度与冷却水温度温差15�?/p>

循环泵流�?/p>

7~20L/min 5bar

7~20L/min 5bar

15~40L/min 5bar

20~60L/min 5bar

储罐容积

6L

8L

10L

15L

尺寸

480*750*390

480*750*390

480*750*390

480*750*500

电源

220V 50HZ/60hz 0.6kw

220V 50HZ/60hz1.3kw

220V 50HZ/60hz 1.6kw

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型号		HLTZ4-10WPEX	HLTZ4-40WPEX	HLTZ4-75WPEX
温度范围		-40 ℃～-30�?/td>	-40℃～-30�?/td>	-40℃～-30�?/td>
控温精度		±0.3�?/td>	±0.3�?/td>	±0.3�?/td>
温度反馈		Pt100	Pt100	Pt100
制冷�?0HZ	-40�?/td>	4.5kW	16kW	40kW
压缩�?/td>		变频压缩�?/td>
节流方式		电子膨胀阀
输入、显�?/td>		7寸西门子触摸屏\ PLC控制�?/td>
通信		Modbus RTU协议RS485接口、以太网TCP/IP协议
制冷�?/td>		R404A/R448A
进出液尺�?/td>		DN15 PN16	DN20 PN16	DN25 PN16
水冷冷凝�?/td>		需要冷水机供水或闭式冷却塔供水
电源		380V 50HZ 可选配三相/460V 60HZ
管路材质		铜、SUS304
外壳材质		冷轧板喷塑（REL7035�?/td>

型号	ETCU-005W	ETCU-015W	ETCU-030W	ETCU-050W	ETCU-100W	ETCU-200W	ETCU-300W
温度范围	冷却水温�?+5℃~90�?/td>
控温精度	±0.05℃（出口温度稳态）
冷却水温�?/td>	7℃~30�?采用西门�?霍尼韦尔调节阀控制冷却水流�?/td>
冷却能力	5kW	15kW	30kW	50kW	100kW	200kW	300kW
冷却能力	测试条件：最大循环量时，控温温度与冷却水温度温差15�?/td>
流量/压力 MAX	7~20L/min 5bar	15~40L/min 5bar	20~60L/min 5bar	40~110L/min 5bar	150~250L/min 5bar	250~500L/min 5bar	400~650L/min 5bar
储罐容积	5L	10L	20L	30L	60L	120L	240L
外形尺寸 cm	487539	487539	487550	定制	定制	定制	定制

型号	ETCU-005W	ETCU-008W	ETCU-015W	ETCU-030W
温度范围	冷却水温度�?5℃~90℃ �?.3�?/p>
冷却水温�?/p>	7℃~30�?采用西门�?霍尼韦尔调节阀控制冷却水流�?/p>
冷却能力	5kw	8kw	15kw	30kw
	测试条件：zui大循环量时，控温温度与冷却水温度温差15�?/p>
循环泵流�?/p>	7~20L/min 5bar	7~20L/min 5bar	15~40L/min 5bar	20~60L/min 5bar
储罐容积	6L	8L	10L	15L
尺寸	480750390	480750390	480750390	480750500
电源	220V 50HZ/60hz 0.6kw		220V 50HZ/60hz1.3kw	220V 50HZ/60hz 1.6kw