FLTZ 系列设备采用单级蒸汽压缩制冷系统与循环介质系统集成设计，可实现制冷与加热功能，同时为用户提供温度稳定的冷却介质。设备支持循环液出口温度控制与工件负载温度控制（选配），出口控温精度稳定�?±0.1℃，部分型号可定�?±0.01℃控温精度，能够满足光刻工艺对温度稳定性的要求。工艺工程温度控制可根据自创无模型自建树算法和串级算法结合，控制工件目标温度，实现动态控温，减少温度偏差对光刻工艺的影响�?/p>

在光刻设备配套中，FLTZ 系列设备可为光刻机的光学系统、晶圆台提供稳定的冷却介质，控制设备运行温度，避免温度过高或波动导致的设备性能偏差。设备支持氟化液、乙二醇水溶液、DI 水等多种介质，其中去离子水可满足微电子领域对介质低电导率的需求，适配光刻工艺对介质洁净度的要求。介质流量压力可根据型号调整，流量范�?15-30LPM，压�?0.3-0.5MPa，可匹配光刻设备的管路接口与流量需求�?/p>

设备的安全防护配置适配半导体车间运行规范，具备自我诊断功能、相序断相保护器、电源过电流、欠欠压保护、漏液报jing、加热系统保护、进出液口压力监控及低位保护等，可实时监测设备运行状态，异常时自动报jing并停机，保障设备与光刻设备的安全运行。通讯方面，支�?MODBUS RTU/TCP 协议�?ETHERCAT、LONWORKS 等，可接入车间自动化控制系统，实现远程监控与参数调整，适配半导体产线的自动化运行需求�?/p>

FLTZ 单通道温控设备以稳定的控温性能、多介质适配能力，为半导体光刻工艺提供了可靠的温控支持，可根据不同光刻设备的温度需求、流量需求选择适配型号，保障光刻工艺的稳定运行�?/p>

FLS常温高精度系�?/a>

适用范围 应用：原理：CHILLER 高精度系列设备集成蒸汽压缩制冷系统与循环介质系统，进行制冷加热，可实现高精度控温，适用于光刻机、涂胶显影设备等领域制冷加热控温。核心技术与优势�?.高精度控温：采用PID算法或PLC控制，实现温度波动≤±0.005℃，适用于高精密制造场景�?.多场景适配：支持氟化液、乙二醇水溶液、DI水等不同介质使用�?…

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FLTZH高温系列

适用范围 应用：CHILLER高温系列主要应用与薄膜沉积领域，适用于CVD、PECVD、MOCVD等需要带走高温热量的工艺制程中，满足半导体高温测试需求。核心技术与优势�?、高温范围宽：出口温度最高可�?00℃�?、控温精准：采用智能算法，实现系统动态温度快速响应、控制精度�?.1℃（可选配±0.01℃），具有良好的温度跟随性�?、节约能�?采用变频自适应调节、软启动…

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FLTZ-U超纯水温控系�?/a>

适用范围 Chiller是由紧密耦合的制冷循环与介质循环两大核心系统构成，通过两个循环通道间的介质高效换热，实现对目标设备的精准、稳定温度控制�?产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 原理：制冷剂在系统中循环，通过压缩、冷凝、节流和蒸发四个过程实现制冷�?同时，载冷剂（介…

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FLTRZ二氧化碳系列

适用范围 FLTRZ系列Chiller采用的CO₂（二氧化碳，R744）制冷剂，是契合全球“双碳”战略与环保趋势的高效制冷设备，以天然CO₂为制冷介质，为半导体行业提供绿色可靠的制冷解决方案�?产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 行业应用 AP…

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氟化液回收装�?/a>

适用范围 氟化液回收系统采用一体式风冷设计。采用品牌的压缩机、冷凝器、蒸发器等部件，形成制冷系统提供冷源，蒸发器与客户端氟化液循环系统进行换热，对氟化液进行冷凝后回收�?产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 控制系统采用PLC加触摸屏方式，可以显示环境温度，具有电源欠压、缺…

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FLTZ变频多通道系列Chiller

FLTZ系列多通道Chillers主要用于半导体制程中对反应腔室温度的精准控制，公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），显著提升系统的响应速度、控制精度和稳定性�?/p>详细信息

单通道系列 Single Channel Chiller

FLTZ系列单通道Chillers主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制，公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），实现系统快速响应、较高的控制精度�?/p>详细信息

面板系列Panel Chiller

面板系列Chiller应⽤于刻蚀、蒸镀、镀膜⼯艺等，支持⼤流量⾼负载，确保恶劣⼯况下持续稳定运⾏；支持冷却⽔动态调节系统，可根据环境温度与设备热负荷，实时调节⽔温�?/p>详细信息

帕尔贴Chiller

冠亚恒温LNEYA 帕尔贴热电制冷器CHILLER温度范围�?20�?0℃，专为半导体行业度身定制； 基于经过实践验证的帕尔贴热传导原理，帕尔贴温度控制系统能够为等离子刻蚀应用提供可重复性的温度控制�?/p>详细信息

负压型控温机�?/a>

负压型控温系统通过负压环境下的流体循环实现精准温度控制，原理：通过负压发⽣器驱动导热介质（�?油）循环，避免泄漏⻛险，适⽤于各种类型板卡冷却�?/p>详细信息